ALD鍍膜的保形性，可均勻覆蓋3D藍寶石等襯底，頂部、側(cè)壁、底部的鍍膜厚度一致，可達到90%以上的鍍膜臺階覆蓋率。
左圖：ALD鍍膜的保形性，可均勻覆蓋3D藍寶石等襯底，頂部、側(cè)壁、底部的鍍膜厚度一致，可達到90%以上的鍍膜臺階覆蓋率。
右圖：不同厚度，ALD工藝的Al2O3的絕緣性能對比，厚度越厚絕緣性能越好；O3+TMA工藝比H2O+TMA工藝的絕緣性能好一些。200℃、120nm的Al2O3薄膜擊穿電壓達到10MV/cm(測量上限）。
Excellent conformality: cross-sectional SEM image of 110nm Al2O3 ALD film coating on a 3D sapphire.
左圖：ALD鍍膜的保形性，可均勻覆蓋3D藍寶石等襯底，頂部、側(cè)壁、底部的鍍膜厚度一致，可達到90%以上的鍍膜臺階覆蓋率。
右圖：不同厚度，ALD工藝的Al2O3的絕緣性能對比，厚度越厚絕緣性能越好；O3+TMA工藝比H2O+TMA工藝的絕緣性能好一些。200℃、120nm的Al2O3薄膜擊穿電壓達到10MV/cm(測量上限）。
Copyright ? 2023 光馳半導(dǎo)體技術(shù)（上海）有限公司 滬ICP備2023009503號-1
滬公網(wǎng)安備31011302007876
