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ALD鍍膜技術用于手機攝像頭等鏡頭鍍膜，以減少反射導致的拍照...
Mini LED的金屬電極保護，有效防止金屬遷移，延長LED...
GLA草狀氧化鋁，微結構表面陷光效應，相較于 干涉AR鍍膜，...
ALD鍍膜的保形性，可均勻覆蓋3D藍寶石等襯底，頂部、側壁、...
A1000PC是面向于工業化大規模生產的原子層沉積系統，低溫鍍膜設計可以在各種3維基板上沉積高質量光學薄膜。
A800LS的小型化布局設計使得維護等操作在灰區進行，節省了潔凈間占地面積。相應的維護操作更簡便，消耗品使用更少，滿足工業化所需的高重復性和高可靠性鍍膜。
光馳A800TBS原子層沉積系統是專業應用于晶圓級光學領域的工業化批量式ALD，例如：光柵間隙填充，三維表面修飾，器件封裝和沉積增透減反膜。
應用于Mini/Micro LED, OLED, Power Device, VCSEL, Wafer Optics
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