光馳A800TBS原子層沉積系統(tǒng)是專業(yè)應(yīng)用于晶圓級光學(xué)領(lǐng)域的工業(yè)化批量式ALD，例如：光柵間隙填充，三維表面修飾，器件封裝和沉積增透減反膜。
光馳A800TBS原子層沉積系統(tǒng)是專業(yè)應(yīng)用于晶圓級光學(xué)領(lǐng)域的工業(yè)化批量式ALD，例如：光柵間隙填充，三維表面修飾，器件封裝和沉積增透減反膜。
光馳A800TBS擁有極佳的薄膜均勻性和很短的單次循環(huán)時間，產(chǎn)量高，顆粒數(shù)低，電學(xué)和光學(xué)性能優(yōu)越，從而重新定義了大規(guī)模量產(chǎn)ALD系統(tǒng)。
經(jīng)過特殊設(shè)計和專門調(diào)試的A800TBS，能夠滿足目前市場客戶所需求的低溫沉積工藝。
光馳A800TBS采用在潔凈間進(jìn)行生產(chǎn)，維護(hù)操作在灰區(qū)進(jìn)行，節(jié)省了設(shè)備占地面積。這種設(shè)計使得設(shè)備維護(hù)更簡便，耗材更少，并且有著優(yōu)越的的鍍膜重復(fù)性與可靠性。
8英寸標(biāo)準(zhǔn)晶圓裝片量高達(dá)25片
70 – 300℃
大批量工藝，極短的沉積循環(huán)時間
200℃沉積溫度， Al2O3薄膜不均勻性低于1%（1sigma）
極具競爭力的薄膜均勻性和其他性能沉積薄膜：Al2O3, SiO2, TiO2
前驅(qū)體位置：標(biāo)配鋁源，鈦源，水源
其他前驅(qū)體源如臭氧，氨氣，硅源可選配
手動裝片
半自動裝片
全自動裝片
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