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A1000PC: 應用于3D基板的干涉超低反薄膜

ALD鍍膜技術用于手機攝像頭等鏡頭鍍膜,以減少反射導致的拍照鬼影炫光。同時光馳ALD鍍膜的環境測試效果非常好,在85溫度85濕度條件下1000小時老化測試后反射光譜仍然沒有變化。

概述

ALD鍍膜技術用于手機攝像頭等鏡頭鍍膜,以減少反射導致的拍照鬼影炫光。同時光馳ALD鍍膜的環境測試效果非常好,在85溫度85濕度條件下1000小時老化測試后反射光譜仍然沒有變化。


ALD鍍膜技術對比PVD鍍膜技術,在3D基板表面,ALD可以做到更好的鍍膜均勻性,保形性。這是PVD鍍膜難以達到的。

相關功能

A1000PC: 應用于3D基板的干涉超低反薄膜

(a) No bubbles or cracking (b) Negligible wavelength shift after HTHH test

A1000PC: 應用于3D基板的干涉超低反薄膜

Good adhesion and conformality shown by the cross section of ALD SiO2/TiO2 coating on substrate, sampling by FIB and SEM

A1000PC: Anti-reflective coating on 3D substrate

應用場景

ALD鍍膜技術用于手機攝像頭等鏡頭鍍膜,以減少反射導致的拍照鬼影炫光。同時光馳ALD鍍膜的環境測試效果非常好,在85溫度85濕度條件下1000小時老化測試后反射光譜仍然沒有變化。


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